반도체 기술 유출한 전 삼성전자 부장, 1심서 징역 7년 선고

0
반도체 기술 유출, 삼성전자, 중국 CXMT, 산업기술 보호법, 국가 핵심기술, 기술 유출 범죄, D램 공정, 국가정보원, 검찰 수사, 1심 판결
(사진 출처-픽사베이.본 이미지는 사건과 무관한 이미지입니다.)
반도체 기술 유출, 삼성전자, 중국 CXMT, 산업기술 보호법, 국가 핵심기술, 기술 유출 범죄, D램 공정, 국가정보원, 검찰 수사, 1심 판결
(사진 출처-픽사베이.본 이미지는 사건과 무관한 이미지입니다.)

삼성전자의 반도체 핵심 기술을 중국 반도체 업체에 유출한 혐의로 기소된
전직 삼성전자 부장이 1심에서 징역 7년을 선고받았다.
이는 역대 기술 유출 범죄 중 최장 형량이다.

서울중앙지법 형사합의25부(부장판사 지귀연)는 19일
산업기술의 유출 방지 및 보호에 관한 법률 위반 등의 혐의로 기소된 김모 전 삼성전자 부장에게
징역 7년과 벌금 2억 원을 선고했다.

함께 기소된 삼성전자 협력업체 전 직원 방모 씨와 김모 씨는
각각 징역 2년 6개월, 1년 6개월을 선고받았다.

김 전 부장은 삼성전자의 18나노 D램 반도체 공정 정보를 무단으로 유출해
중국 반도체 제조업체 창신메모리테크놀로지(CXMT)의 제품 개발에 사용하게 한 혐의로
지난해 1월 기소됐다.

CXMT는 중국 내 유일한 D램 생산업체다.

검찰은 CXMT가 해당 정보를 취득한 이후 반도체 양산에 성공한 점을 들어,
삼성전자의 기술을 활용해 기술 장벽을 뛰어넘었다고 판단했다.

이에 지난해 12월 김 전 부장에게 징역 20년을 구형했다.

법원은 김 전 부장이 주도적으로 삼성전자의 핵심 기술을 유출했다고 인정했다.

김 전 부장은 결심공판에서 “일반 기술이라 생각했고 투자자들에게 홍보 자료로 사용하기로 해 자료를 다 함께 준비한 것”이라고 주장했으나, 법원은 이를 받아들이지 않았다.

1심 재판부는 “국가 핵심기술에 해당하는 삼성전자의 반도체 공정 정보를 부정 취득해 공개, 누설, 사용하는 데까지 나아갔다”며
“삼성전자 등 국내 반도체 기업이 들인 막대한 개발비와 양산 비용, 그리고 중국 경쟁 업체가 유사 제품을 개발해 양산에 성공한 점 등을 감안할 때 피해 규모는 실로 막대할 것”이라고 지적했다.

이어 “관련 산업 분야의 건전한 경쟁을 심각하게 저해한 범죄”라며
“피해 기업의 시간과 비용을 무의미하게 만들 뿐만 아니라 대한민국의 국가산업 경쟁력에도 큰 악영향을 미칠 중대한 범죄”라고 판결 이유를 설명했다.

이번 사건은 국가정보원이 2023년 5월 기술 유출 정황을 포착하고
검찰에 수사를 의뢰하면서 시작됐다.

검찰 수사 결과, 김 전 부장은 2016년 신생 반도체 업체 CXMT로 이직하면서
삼성전자의 ‘증착’ 관련 기술 자료와 7개 핵심 공정 관련 정보를 유출하고,
수백억 원대 금품을 수수한 것으로 드러났다.

또한, 최소 세후 5억 원이 넘는 금액을 제시하며
삼성전자와 관계사의 기술 인력 20여 명을 빼간 것으로 조사됐다.

검찰은 이러한 행위가 삼성전자의 경쟁력을 약화시키고,
중국 반도체 산업의 성장을 가속화하는 결과를 초래했다고 판단했다.

다른기사보기

신혜연 (karung2@sabanamedia.com) 기사제보

0 0 votes
Article Rating
Subscribe
Notify of
0 Comments
Inline Feedbacks
View all comments